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TSMC・Samsung・Intel・ASML、6×12インチフォトマスクで異例の共同戦線――High-NA EUVによる大型チップ製造に道
2026-11-04 · ASML、Intel、Samsung、TSMCが6×12インチフォトマスクの開発を共同で推進。High-NA EUVで大型プロセッサをステッチングなしでパターニ
Intel FoundryとASML、High-NA EUVの処理ウェハー100万枚を突破――量産展開へ弾み
2026-11-04 · 両社は今週モントレーで開催されたSPIE会議において、High-NA EUVの大量生産向け商用化の進捗報告としてこのマイルストーンを発表しました。
Mistral AI、Samsung主導で30億ユーロを調達――NvidiaやASMLも出資に名を連ねる
2026-11-04 · フランスのオープンソースAIラボが30億ユーロ(約34億9000万ドル)を調達。Samsung ElectronicsがSalesforce Ventures、
SamsungとTSMC、ASMLのHigh NA EUV採用を確約――12インチシフトを連携して推進
2026-11-04 · SamsungとTSMCはASMLと連携し、High Numerical Aperture EUVリソグラフィの生産導入に乗り出します。次世代露光装置の導入に、
ASML、1000W級レーザー生成プラズマEUVに注力——イーロン・マスク氏支援の加速器技術は見送り
2026-11-04 · EUVスキャナの首位企業ASMLは、レーザー生成プラズマ光源を1000W級へと進化させる一方、イーロン・マスク氏が後押しする粒子加速器ベースの自由電子レーザー技
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